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柜员机设备

柜员机设备2C9-2925753

2021-09-26 18:17:22      点击:211
  • 型号柜员机设备2C9-2925753
  • 密度211 kg/m³
  • 长度45745 mm
  • 柜员机设备2C9-29257532 光刻机就像面条机

    光刻机类似于一个面条机,柜员机设备2C9-2925753是加工制作“面条”——芯片的核心设备。不同的面条机,柜员机设备2C9-2925753做出来的面条质量并不相同,有的粗,有的细,有的慢,有的快。

    光刻机能够做出来多小的图形尺寸,柜员机设备2C9-2925753跟光刻机的结构和性能有关。因此,柜员机设备2C9-2925753光刻机自发明之后,为了使造出来的“面条”效果更好,人类对光刻机进行了不断的改进。

    首先是曝光光源的更新换代。从最初的436纳米波长光源,柜员机设备2C9-2925753到DUV(深紫外)所用的248纳米和193纳米波长,柜员机设备2C9-2925753再到目前最顶级的EUV(极紫外)13.5纳米波长,光源波长不断缩小,曝光能够获得的分辨率自然不断提高。如果从使用光源来看,光刻机的发展主要经历了5代,类似于一个面条机从1.0到5.0的版本。

    柜员机设备2C9-2925753光刻机主要发展历程

    柜员机设备2C9-2925753再就是光学系统结构的演进。

    20世纪六七十年代,柜员机设备2C9-2925753接触式光刻机是集成电路制造的主流设备。这种机器曝光过程中掩膜版与硅片上的光刻胶直接接触,柜员机设备2C9-2925753优点是可以减小光的衍射效应,缺点是会污染损坏掩膜版和光刻胶,缩短掩膜版使用寿命,且极易形成图形缺陷,影响良率。

    为了解决上述问题,柜员机设备2C9-292575320世纪70年代开始采用接近式光刻机。这种光刻机在掩膜版和硅片之间有微小间距,柜员机设备2C9-2925753由于掩膜版和硅片间距越小,光刻工艺的分辨率越高,当二者间距接近几十微米时,就很难再减小,而且会受衍射效应的影响。

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